Przejdź do menu głównego
Przejdź do treści
PL
|
EN
Szukaj
Przeglądaj
Pomoc
O nas
test
Ograniczanie wyników
Czasopisma
1
Acta Agrophysica
Autorzy
1
Guzdek T.
1
Niedzielski P.
1
Szmidt J.
Lata
1
2002
Preferencje
Polski
English
Język
Widoczny
[Schowaj]
Abstrakt
10
20
50
100
Liczba wyników
Znaleziono wyników: 1
Liczba wyników na stronie
10
20
50
100
Strona
/ 1
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: RF PE CVD plasma process
Sortuj według:
trafności
tytułu publikacji
daty malejąco
daty rosnąco
tytułu czasopisma
nazwiska pierwszego autora
Ogranicz wyniki do:
we wszystkich polach
w tytułach publikacji
w tytułach czasopism
w nazwiskach autorów
w słowach kluczowych
w cytowaniach
Strona
/ 1
1
Dostęp do pełnego tekstu lokalnie
NCD layers obtained in RF PE CVD plasma process as an dielectrical chemosensitive material in MIS end ChemFET structures
100%
Guzdek T.
,
Szmidt J.
,
Niedzielski P.
Acta Agrophysica
|
2002
|
tom
80
Strona
/ 1
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.