Monitorowanie parametrow czynnika myjacego w trakcie mycia w przeplywie

• Autorzy: Diakun J. , Mierzejewska S. , Piepiorka J.

Warianty tytułu

EN

Monitoring parameters of cleaning in flow

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Celem pracy zaprezentowanej w artykule było badanie zmian parametrów czynnika myjącego w systemie Clean In Place. Na podstawie badań możliwe jest wyznaczenie charakterystycznych faz procesu mycia i analiza intensywności usuwania zabrudzeń. Parametry procesu mycia monitorowano za pomocą aparatury pomiarowej do pomiarów ciągłych. Na stanowisku laboratoryjnej stacji mycia CIP dokonywano pomiaru wartości parametrów cieczy myjącej: mętności, przewodności i pH. Stwierdzono cykliczność procesu i zależności w wymywaniu składników kwasowych i zasadowych.

EN

The aim of this work was introduction position to cleaning in the closed configuration with the possibility with measure¬ment on line. It is possible to delimitation of the characteristic phase of the cleaning process in CIP system and it is possible to analysis intensity of soils removing. Parameters of the cle¬aning process were monitoring by the measuring equipment for continuous measurement. On the position were measure value parameters of cleaning liquid: dimness, conductivity, pH. During investigation were affirmed cycle of process and dependence in cleaning acidic and alkaline components.

• Wydawca: -
• Czasopismo: Postępy Techniki Przetwórstwa Spożywczego
• Rocznik: 2009
• Tom: 19
• Numer: 1
• Opis fizyczny: s.34-36,wykr.,fot.,bibliogr.

Twórcy

autor

Diakun J.

• Katedra Procesow i Urzadzen Przemyslu Spozywczego, Politechnika Koszalinska, Koszalin

autor

Mierzejewska S.

autor

Piepiorka J.

Bibliografia

• [1] Diakun J., Mierzejewska S.: Stanowisko do badań ekspe¬rymentalnych warunków i skuteczności mycia, Inżynieria i Aparatura Chemiczna, 2005, t. 44 (36) nr 1-2/, s. 33-34.
• [2] Mierzejewska S., Diakun J.: Ocena stopnia zabrudzenia i skuteczności mycia powierzchni ze stali kwasoodpor- nej, Inżynieria Rolnicza, 2005, nr 11 (71), s. 325-332.
• [3] Kanegsberg B.: Handbook for critical cleaning, CRC Press LLC, 2001.
• [4] Dane techniczne aparatury pomiarowej.