NCD layers obtained in RF PE CVD plasma process as an dielectrical chemosensitive material in MIS end ChemFET structures

• Autorzy: Guzdek T. , Szmidt J. , Niedzielski P.
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

PL

Słowa kluczowe

EN

dielectrical chemosensitive material; ChemFET structure; chemosensitive film; RF PE CVD plasma process; liquid organic compound

• Wydawca: -
• Czasopismo: Acta Agrophysica
• Rocznik: 2002
• Tom: 80
• Opis fizyczny: p.289-294,fig.,ref.

Twórcy

autor

Guzdek T.

• Warsaw University of Technology, Koszykowa 75, 00-662 Warsaw, Poland

autor

Szmidt J.

autor

Niedzielski P.