Low temperature plasma oxidation of silicon-possibility of application in CMOS-ULSI technology

• Autorzy: Beck R.B. , Bieniek T. , Wojtkiewicz A. , Jakubowski A.
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

PL

Słowa kluczowe

EN

silicon; CMOS-ULSI technology; oxidation; low temperature plasma

• Wydawca: -
• Czasopismo: Acta Agrophysica
• Rocznik: 2002
• Tom: 80
• Opis fizyczny: p.247-256,fig.,ref.

Twórcy

autor

Beck R.B.

• Warsaw University of Technology, Koszykowa 75, 00-662 Warsaw, Poland

autor

Bieniek T.

autor

Wojtkiewicz A.

autor

Jakubowski A.