Plasma deposition and etching of carbon layers for microelectronics

• Autorzy: Galazka M. , Szmidt J. , Werbowy A.
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

PL

Słowa kluczowe

EN

plasma deposition; thin carbon layer; plasma etching; microelectronics; aluminium mask; carbon layer

• Wydawca: -
• Czasopismo: Acta Agrophysica
• Rocznik: 2002
• Tom: 80
• Opis fizyczny: p.283-288,fig.,ref.

Twórcy

autor

Galazka M.

• Warsaw University of Technology, Koszykowa 75, 00-662 Warsaw, Poland

autor

Szmidt J.

autor

Werbowy A.