Application of plasma in microelectronics

• Autorzy: Szmidt J. , Werbowy A.
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

PL

Słowa kluczowe

EN

layer etching; application; plasma; microelectronics; plasma technique

• Wydawca: -
• Czasopismo: Acta Agrophysica
• Rocznik: 2002
• Tom: 80
• Opis fizyczny: p.383-392,fig.,ref.

Twórcy

autor

Szmidt J.

• Warsaw University of Technology, Koszykowa 75, 00-662 Warsaw, Poland

autor

Werbowy A.