Application of pulsed discharge for deposition of organo-silicon thin films

• Autorzy: Ulejczyk B. , Opalinska T. , Karpinski L. , Schmidt-Szalowski K.
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

PL

Słowa kluczowe

EN

plasma deposition; application; tetraethoxysilane; pulsed discharge; plasma etching; barrier discharge; organo-silicon thin film

• Wydawca: -
• Czasopismo: Acta Agrophysica
• Rocznik: 2002
• Tom: 80
• Opis fizyczny: p.275-282,fig.,ref.

Twórcy

autor

Ulejczyk B.

• Industrial Chemistry Research Institute, Rydygiera 8, 01-793 Warsaw, Poland

autor

Opalinska T.

autor

Karpinski L.

autor

Schmidt-Szalowski K.